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台積電內鬼工程師外洩二奈米技術 3人不服被押提抗告 全遭駁回確定

台積電內鬼竊取現階段全球最先進的晶片製造工藝二奈米製程關鍵技術,工程師陳力銘等3人被遭台灣高等檢察署依國安法竊取國家核心關鍵技術罪嫌,聲請羈押禁見,智慧財產及商業法院裁准。3人不服提出抗告,最高法院昨天裁定駁回抗告確定。
台積電預計今年底前量產二奈米製程晶片,該技術被視為現階段全球最先進的晶片製造工藝,因開發難度大,投入成本極高,政府將此列為「國家核心關鍵技術」,一旦外洩將衝擊台灣半導體產業與國安,這也是國安法3年前修法納管後,檢調首件偵辦的國家核心關鍵技術營業秘密案。知情人士表示,涉案的3名工程師都畢業於清華及交通等頂大,在台積電任職期間工作都與提升晶片良率有關。遭翻拍的製造流程圖,雖然是局部資料,但來自台積電良率部門,負責為產品開發把關,相關資訊量完整,對內行人而言,對於提升產品良率,可以減少摸索的冤枉路。
【2025/8/8 聯合新聞網】

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